| 加工定制：否 | 品牌：trymax | 型号：NEO2400 |
| 用途：光刻胶剥离及灰化设备 | 别名：去胶机 | 规格：1 |
Trymax 光刻胶剥离和灰化 等离子去胶机/清洗设备
Trymax 设备 Neo300系列是目前用于光刻胶剥离和灰化的进的等离子体去胶系统;
它是目前Trymax NEO系列中的全自动单腔体的可配置NEO系列中所有模块的等离子设备，可满足生直接300MM的衬底需求。NEO300A是单腔体拾取占地体积小。
? 应用：
- 晶圆或基板尺寸为100-150-200 mm；
- 3 or 4上料盒or 2 个集成 上料槽
- 带晶圆拾取功能的5 轴双臂机械手功能；
- 4种进程模块可供选择:
? 微波模块(2.45 GHz)
? RF模块 (13.56MHz)
? 双源 (微波, RF)
? DCP (RF, 双射频)
- 良好的一致性和可重复性
- 机械速率 > 220wph
- 占地面积小
- 使用成本低
-全数字控制
-工业计算机Windows
? 产品应用
产品应用
-湿法或干法刻蚀前后的去残胶
- 浮渣去除
- 化学残余物去除
-高剂量离子注入光刻胶的去除
- 氮化硅刻蚀
-湿法或干法刻蚀前后的去残胶
? 认证：
- SEMI S2-01
- SEMI S8-01
- CE EU-RoHs
