产品特性:纳米压印 | 加工定制:是 | 品牌:EVG 纳米压印光刻(NIL) |
型号:EVG 纳米压印光刻(NIL) | 用途:EVG 纳米压印光刻(NIL) | 订货号:EVG 纳米压印光刻(NIL) |
货号:EVG 纳米压印光刻(NIL) | 别名:EVG 纳米压印光刻(NIL) | 规格:EVG 纳米压印光刻(NIL) |
是否跨境货源:否 |
EVG?770 Step-and-Repeat Nanoimprint Lithography System
EVG?770 分步重复纳米压印光刻系统
分步重复纳米压印光刻技术,可进行***母版制作
技术数据
EVG770是用于步进式纳米压印光刻的通用平台,可用于有效地进行母版制作或对基板上的复杂结构进行直接图案化。这种方法允许从50 mm x 50 mm的小模具到300 mm基板尺寸的大面积均匀复制模板。与钻石车削或直接写入方法相结合,分步重***印通常用于有效地制造晶圆级光学器件制造或EVG的SmartNIL工艺所需的母版。
EVG770的主要功能包括***的对准功能,完整的过程控制以及可满足各种设备和应用需求的灵活性。
特征
高效的晶圆级光学微透镜主制造,直至SmartNIL?的纳米结构
简单实施不同种类的大师
可变抗蚀剂分配模式
分配,压印和脱模过程中的实时图像
用于压印和脱模的原位力控制
可选的光学楔形误差补偿
可选的自动盒带间处理
技术数据
晶圆直径(基板尺寸)100至300毫米
解析度≤50 nm(分辨率取决于模板和工艺)
支持流程:柔软的UV-NIL
曝光源:大功率LED(i线)> 100 mW /cm?
对准:顶侧显微镜,用于实时重叠校准≤±500 nm和精细校准≤±300 nm
***印刷模具到模具的放置精度:≤1微米
有效印记区域:长达50 x 50毫米
自动分离:支持的
前处理:涂层:液滴分配(可选)