产品特性:沉积薄膜 | 加工定制:是 | 品牌:SENTECH |
型号:SENTECH ICP等离子沉积系统-SI 500D | 电源电压:220V | 功率:1000W |
铝丝直径:25weimμm | 重量:500kg |
SENTECH ICP等离子沉积系统-SI 500D
SENTECH仪器(德国)有限公司是国际主流的半导体设备商,研发、制造和销售***的薄膜测量仪器(反射仪、椭偏仪、光谱椭偏仪)和等离子工艺设备(等离子刻蚀机、等离子沉积系统、用户定制系统)。
SI 500D等离子沉积系统是ICP-PECVD设备,利用ICP高密度等离子源来沉积电介质薄膜。可在极低温度下(<100?C)沉积高质量SiO2, Si3N4, 和SiOxNy薄膜。可以实现沉积薄膜厚度、折射率、应力的连续调节。
SI 500 D主要特点:
l 适用于8寸以及以下晶片
l 低温沉积高质量电介质膜:80°C~350°C
l 高速率沉积
l 低损伤
l 薄膜特性 (厚度、折射率、应力) 连续可调
l 平板三螺旋天线式PTSA等离子源 (Planar Triple Spiral Antenna)
l SENTECH***等离子设备操作软件
l 穿墙式安装方式
系统配置: